Oberflächenanalytische Verfahren
Sekundärionen-Massenspektroskopie (SIMS)
Elektronenspektroskopie zur chemischen Analyse (ESCA / XPS)
Geschieht die Anregung der Probenatome durch energiereiche Röntgenstrahlung, werden durch die Ionisation Photoelektronen freigesetzt, deren Registrierung im Wesentlichen die halbquantitative Bestimmung der Elementzusammensetzung auf einer Oberfläche ermöglicht. Darüber hinaus können Angaben zu den Bindungsverhältnissen der detektierten gemacht werden. Dieses Verfahren wird als (Röntgen-) Photoelektronenspektroskopie (engl. XPS) oder auch synonym als Elektronenspektroskopie zur chemischen Analyse (engl. ESCA) bezeichnet. Die mittels ESCA beziehungsweise XPS erreichte Informationstiefe ist ebenfalls sehr gering (ca. 1 nm). Im Gegensatz zur SIMS sind halbquantitative Aussagen zur Elementzusammensetzung und zu den Bindungsverhältnissen zwischen den Atomen der untersuchten Oberflächenschicht möglich. Durch Ionensputtern lassen sich für beide Methoden Tiefenprofile erstellen.
Beispiel:
Tiefenprofil durch eine TiN/Ag-Schicht mit Oberflächenzusammensetzung in At.-% mit deutlichem Organikanteil
Lochkorrosion
Erhebliche Lochkorrosion an Aluminiumprofilen. Ursächlich für diesen Schaden waren eine hohe Schwefeldioxid-Belastung in der Umgebungsluft und eine häufige Überschreitung des Taupunktes. EDX-Analysen lassen einen hohen Schwefelgehalt in den Korrosionsprodukten erkennen.